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用于硼靶材的快速烧制装置
现有的烧制装置炉内温度低,导致烧制时间较长,从而使制备出的靶材结构密度低,机械强度差,不适合在脉冲激光法和电子束法制膜技术中使用。并且,现有的烧制装置在烧制完成后多为自然冷却,冷却时间长,无法检测烧制装置内部的温度,在取物时容易发生烫伤。需要烧制装置技术。

2024-09-14 17:44:58